这一湿化学法以纳米特征尺度刻蚀晶片表面，从而增加了光线反射表面的次数及被晶片材料吸收的机会。该工艺使用专利性化学品，具有低成本性和可扩展性，且极易被集成入电池生产线。

 

SERIS认为，相较于“黑硅”工艺，其新工艺能给生产厂家提供更多的益处。表示他们的技术“更简单、更价廉，且无金属，可以达到20%以上的电池效率”，有潜力成为被多晶硅太阳能电池制造商广泛使用的主流织构技术。